電子級(jí)水是指電子和半導(dǎo)體工藝過(guò)程中所用的超純水。超純水是一類(lèi)純度高的。幾乎不含電解質(zhì)、氣體、有機(jī)物和難離解膠體物的水，其電阻率不低于10MΩ/cm含鹽量低于0.02mg/L。超純水是電子行業(yè)中常用的術(shù)語(yǔ)，其他行業(yè)，諸如太陽(yáng)能光伏，制藥，發(fā)電以及研究實(shí)驗(yàn)室等也被使用到。雖然每個(gè)行業(yè)都使用所謂的“超純水”，但質(zhì)量標(biāo)準(zhǔn)各不相同。即使在電子行業(yè)中，不同應(yīng)用諸如半導(dǎo)體、液晶面板及各種電子元器件對(duì)超純水的要求也各不相同。其中半導(dǎo)體中代表了“超純水”使用的最高等級(jí)。

表一：《GB-T 11446-2003》電子水等級(jí)

水中雜質(zhì)可分為兩類(lèi)：一是懸浮雜質(zhì)，包含細(xì)菌、病毒、有機(jī)物、膠體等；二是溶解在水中的小分子和離子，包括溶解性氣體、鹽類(lèi)及少量重金屬離子。

超純水制備通常由預(yù)處理、脫鹽、后處理三大部分組成。半導(dǎo)體行業(yè)所使用的超純水（電阻率≥18MΩ/cm）通常采用“預(yù)處理（機(jī)械過(guò)濾）+二級(jí)RO +EDI裝置+拋光混床（MMF+ACF+二級(jí)RO +EDI+SMB）”的工藝。

而EDI電去離子技術(shù)的應(yīng)用對(duì)前端來(lái)水TOC及SiO2等有嚴(yán)苛的要求，TOC要求控制在0.5*10-6mg/L以下，SiO2控制在0.4*10-6mg/L以下，安力斯UV-TOC系列產(chǎn)品使用185nm和254nm雙波段紫外燈，低耗高效去除水中TOC、SiO2游離氯、鐵等微量污染物。

圖一：二級(jí)RO+EDI超純水制備工藝