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半導體超純水說明

半導體超純水說明主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

訪問次數：1895    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2024-07-24

光化學高級氧化

光化學高級氧化，光化學已經深入了各領域的高級氧化應用，包括電子行業超純水TOC降解，自來水中微污染有機物去除，污水處理廠提標改造及深度處理，高難有機廢水預處理等。其中過臭氧光催化氧化技術更多應用于污水處理廠預處理及深度處理；而光芬頓技術因反映效率高（均相反應）、反應條件溫和（常溫常壓），應用范圍廣（COD適用范圍廣），在各行業高難有機廢水處理中有著廣闊的應用前景。$n$n?

訪問次數：1601    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2024-07-19

光化學工業水處理

光化學工業水處理應用于醫藥、農藥、化工等行業去除生物毒性，提高廢水的可生化性。高含鹽廢水的TOC/COD去除，降低蒸發設備故障率，提高產鹽的資源回收率。

訪問次數：1307    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2024-07-19

光化學水處理

光化學高級氧化,光化學水處理：光化學是研究物質吸收光子后，分子層面發生的化學變化，包括電子、原子、分子在基態和激發態的轉變，理化性質變化及其引發的鏈反應。安力斯光化學工業水處理技術是研究水處理凈化過程中，有機物或無機物目標分子在100-700nm光子的激發下所發生的化學反應。

訪問次數：1231    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2024-07-19

光催化高級氧化介紹

光催化高級氧化介紹技術原理：在紫外線激發下H2O2可產生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

訪問次數：2367    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2024-07-19

紫外線消毒器設備

紫外線消毒器設備占地面積小，系統結構緊湊，潛在風險小，確保操作人員安全。系統的安裝十分簡便，不會對工廠的正常生產造成干擾，所需要的維護工作簡便，相比于其他的飲用水深度處理工藝有著顯著的優勢

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半導體超純水設備

半導體超純水設備主要用于生產超純水過程中去除TOC有機物，降低TOC出水指標，使出水滿足美國ASTM超純水水質標準及電子工業部電子級水水質標準。

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北京中壓紫外線殺菌

北京中壓紫外線殺菌是在紫外反應器中加入過氧化氫經紫外光照射生成較高濃度的羥基自由基，可以用于溴味化合物的去除。對所有的細菌和病毒都能高效殺滅

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北京鍋爐補水

在北京鍋爐補水的軟化或除鹽過程中會用到離子交換或反滲透脫鹽設備。而水處理車間的生水（未處理的天然水）中帶有大量細菌和微量有機物，容易造成設備生物滋生和淤泥污堵，從而降低離子交換樹脂的交換容量和增加反滲透的透過壓力。

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UV超純水設備

UV超純水設備指電阻率達到18 MΩ*cm（25℃）的水。這種水中除了水分子外，幾乎沒有什么雜質，更沒有細菌、病毒、含氯二噁英等有機物，當然也沒有人體所需的礦物質微量元素，也就是幾乎去除氧和氫以外所有原子的水。

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TOC超純水

TOC超純水指需電子行業用水，其水中要去除細菌、泥沙、膠體、懸浮物、金屬這些導電雜質。其電阻率≥18MΩ/cm（25℃，EW-I）。

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UV冷卻水介紹

UV冷卻水介紹是指用于做冷卻介質的水，在電廠中主要指在凝汽器中用于冷卻汽輪機排汽的水。

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二次供水紫外消毒設備

二次供水紫外消毒設備具有良好的殺菌效果，由于他不改變水的物理、化學性質，所以在飲用水、食品、飲料、化工、電子、醫藥、生活水箱、中水是*的理想消毒設備

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UV光催化高級氧化

UV光催化高級氧化技術原理：在紫外線激發下H2O2可產生具有很強氧化性的羥基自由基，可將有機污染物最終礦化為CO和H2O，其中間產物具有較多含氧官能團， 有效提高了廢水的可生化性。

訪問次數：2710    產品價格：面議    廠商性質：生產廠家    更新日期：2024-07-19

UV系列紫外線消毒器

UV系列紫外線消毒器占地面積小，系統結構緊湊，潛在風險小，確保操作人員安全。系統的安裝十分簡便，不會對工廠的正常生產造成干擾，所需要的維護工作簡便，相比于其他的飲用水深度處理工藝有著顯著的優勢

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